[发明专利]一种基于化学镀工艺的金属微纳三维打印装置和方法在审
申请号: | 202010409221.X | 申请日: | 2020-05-15 |
公开(公告)号: | CN111663121A | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 朱国栋;王丛欢 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16;B33Y10/00;B33Y30/00 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;陆尤 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于仪器仪表技术领域,具体为一种基于化学镀工艺的金属微纳三维打印装置和方法。本发明装置由中空微管、固定支架、手动调节台、电控调节台、光学显微镜、电脑等组成。中空微管尖端直径决定了打印图案的线条精度。通过电脑控制电控位移台按照预设图案带动微管和试样表面间液柱的移动,实现图案的写入。本发明包括两种基于化学镀的金属微纳三维图案打印方法,一是先在试样表面上用敏化液直写出预设的微纳结构,然后用常规化学镀工艺实现金属层沉积;二是先在试样表面大面积沉积敏化层,然后将化学镀液直写到沉积有敏化层的试样表面,实现微纳结构的金属层沉积。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 化学 工艺 金属 三维 打印 装置 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理