[发明专利]一种膜板、研磨头和化学机械研磨装置在审
| 申请号： | 202010421264.X | 申请日： | 2020-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN111469044A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 丁彦荣;张月;刘青;杨涛;李俊峰;王文武 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B37/34;B24B41/00;B24B41/04;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人： | 王胜利 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种膜板，涉及半导体集成电路制造技术领域，以解决研磨对象的边缘区域与研磨垫之间过度研磨的问题。该膜板具有相对设置的上表面和下表面，上表面的面积大于下表面的面积，下表面用于与研磨对象接触。该研磨头包括上述技术方案所提供的膜板。本发明提供的膜板、研磨头用于化学机械研磨装置中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 化学 机械 装置 | ||
【主权项】：
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