[发明专利]掩模版修复设备有效
| 申请号： | 202010433565.4 | 申请日： | 2020-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN111618710B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 陈策;许亮 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B21/06 | 分类号： | B24B21/06;B24B21/18;B24B21/20;B24B41/06;B24B47/20;B24B49/12;B24B49/16;G03F1/72;B23K26/36;B23K26/70 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 刁文魁 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种掩模版修复设备，掩模版修复设备包括研磨机构，在研磨机构中，导向头的第一端部与所述第二驱动组件连接，第二端部抵接研磨带，第二驱动组件用于驱动导向头摆动以调整研磨带的研磨角度。本申请通过将研磨机构的导向头设置为可摆动的方式，提高了研磨机构的研磨效果。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 修复 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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