[发明专利]光谱气室、光谱标定及测量方法在审
| 申请号： | 202010439971.1 | 申请日： | 2020-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN111551508A | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 何军;胡芫林;程满满;刘幸;苏琴;郭冰 | 申请（专利权）人： | 深圳国技环保技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/27 | 分类号： | G01N21/27;G01N21/33 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518102 广东省深圳市宝安区新安街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种能够极大地降低工作人员的劳动强度、节约实验资源、提高工作效率、标定及测试准确的光谱气室、光谱标定及测量方法。光谱气室的光谱气室主体的结构为一内部具有空腔的柱状体，且光谱气室主体一端的内侧设有一反射结构层，且光谱气室主体设有光纤入口及光纤出口，且光纤入口及光纤出口分别连接有输入光纤和输出光纤，还包括一用于发出光信号的光源，光源发出光信号，并通过输入光纤、光纤入口进入空腔，并经反射结构层反射，由光纤出口、输出光纤连接光谱仪及上位机，还包括至少一个气仓，及光谱气室主体的一表面设有至少一个让气仓插入的气仓口，气仓可对应地插入气仓口而进入空腔，光信号可往复穿过气仓，气仓内部封装有标气或待测试气体。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 标定 测量方法 | ||
【主权项】：
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