[发明专利]一种超薄高稳定性磁片制备方法有效

专利信息
申请号: 202010441877.X 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN111564304B 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 周昊平 申请(专利权)人: 上海万兹新材料科技有限公司
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H05K9/00
代理公司: 上海海贝律师事务所 31301 代理人: 范海燕
地址: 202156 上海市崇*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种超薄高稳定性磁片制备方法,包括如下步骤1)磁性材料进行卷绕分切处理,2)磁性材料进行退火处理,3)将退火后的材料进行单面覆胶处理,得到第一磁性层,4)进行碎化处理,5)碎化处理后进行模切成型处理,得到指定外观尺寸的成品,所述碎化处理的方式为进行二次辊压,得到指定性能磁片,所述磁性材料进行卷绕分切处理之前进行表面预处理,所述步骤3)和4)之间还包括将第一磁性层进行多层贴合处理,得到第二磁性层。本发明,通过先碎后退火的预处理碎化方式能保证每层磁材都能最大化地得到碎化,且碎化颗粒均匀,磁片一致性好,磁片表面光滑平整,外观良率和性能良率高。
搜索关键词: 一种 超薄 稳定性 磁片 制备 方法
【主权项】:
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