[发明专利]石墨烯基透明柔性导电膜层及其制备方法在审
申请号: | 202010442211.6 | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN111593320A | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 隋学森 | 申请(专利权)人: | 青岛峰峦新材料科技有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/56;C23C16/02;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/18;C23C28/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种石墨烯基透明柔性导电膜层及其制备方法,包括在绝缘衬底表面生长石墨烯底层和在石墨烯底层上沉积柔性透明金属导电薄膜两大步骤。在石墨烯底层的制备中,以中间Ge层作为金属催化层,可以确保在绝缘衬底表面化学气相沉积得到平整、均匀的石墨烯层的同时,还可以在生长完成后进行氧化退火将其去除。在柔性透明金属导电薄膜的制备中,以银和金属氧化物作为合金靶材,通过在银靶中掺杂金属氧化物,改善了银膜的稳定性的同时,还改善了柔性透明金属导电薄膜的抗电涌稳定性,提升了使用寿命,同时还有利于在低厚度下形成连续、均匀的柔性薄膜,保证膜层的透明性,降低原料成本。 | ||
搜索关键词: | 石墨 透明 柔性 导电 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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