[发明专利]外延结构有效
| 申请号： | 202010447738.8 | 申请日： | 2020-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN112397575B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 刘嘉哲;施英汝 | 申请（专利权）人： | 环球晶圆股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/20 | 分类号： | H01L29/20;H01L29/205;H01L29/778 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 张娜;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种外延结构，包括：基板、缓冲层、背面扩散阻挡层、形成在背面扩散阻挡层上的通道层以及形成在通道层上的阻挡层。缓冲层形成在基板上。背面扩散阻挡层形成在缓冲层上，背面扩散阻挡层的化学组成为Al |
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| 搜索关键词： | 外延 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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