[发明专利]用于量子点阻挡肋的结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010448093.X 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN111983891A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 金承根;全炯铎;李圭哲;朴京在;宋胜圭 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料韩国有限公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/004;G03F7/09
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 钱文宇;陈哲锋
地址: 韩国忠*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及用于量子点阻挡肋的结构及其制备方法。本发明的用于量子点阻挡肋的结构包括具有均匀的膜厚度和适当的膜厚度范围的固化膜。在此,减小通过SCI(包括镜面反射分量)方法测量的反射率RSCI和通过SCE(不包括镜面反射分量)方法测量的反射率RSCE,并且将它们之间的比率(RSCE/RSCI)进行适当调整,使得可以同时满足如高遮光特性和低反射率这样的特征,同时分辨率和图案特征保持为优异的。此外,当制备所述用于量子点阻挡肋的结构时,可以在单个显影过程中形成具有适合于所述量子点阻挡肋的均匀膜厚度的多层图案。因此,其可以有利地用于量子点显示器。
搜索关键词: 用于 量子 阻挡 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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