[发明专利]硅片PECVD镀非晶硅用石墨舟的清洗方法在审
| 申请号： | 202010448482.2 | 申请日： | 2020-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN111589769A | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 张梦葛;张胜军;沈梦超;绪欣;吴智涵;顾振华;黄海冰 | 申请（专利权）人： | 常州时创能源股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/00 | 分类号： | B08B3/00;B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00;H01L21/673;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片PECVD镀非晶硅用石墨舟的清洗方法，包括碱洗步骤：通过碱液清除石墨舟上的非晶硅。本发明采用碱液清洗硅片PECVD镀非晶硅用石墨舟，能清除石墨舟上沉积的非晶硅，避免石墨舟上沉积的非晶硅影响硅片PECVD镀非晶硅膜的效果，避免出现镀膜不均，硅片及舟壁表面爆膜、脱膜，镀膜速率下降，甚至出现无法继续镀膜的情形。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 pecvd 镀非晶硅用 石墨 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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