[发明专利]一种基于单层导电膜的防电磁泄露透明材料在审

专利信息
申请号: 202010448761.9 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN111655018A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 尹生;龙昌;陈路;王彦淇;甘丹;余争鸣 申请(专利权)人: 航天科工武汉磁电有限责任公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 杨采良
地址: 434000 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于单层导电膜的防电磁泄露透明材料,包括透明基板,透明基板的一侧表面有透明导电膜,透明导电膜经刻蚀形成周期性图案,实现频率选择功能。该结构能够为保密要求较高的办公室等有特殊要求的环境提供低频信号屏蔽的同时保证较好的手机信号接收和发送。本发明的优点在于:单元结构简单,厚度薄,手机通讯频段传输损耗小以及极化方向敏感性弱,通带宽、低频抑制性好。由于其在通带内高效透波,而对通带外的电磁波能进行有效的抑制,使得其具有较好的防止电脑视频信号泄露特性。
搜索关键词: 一种 基于 单层 导电 电磁 泄露 透明 材料
【主权项】:
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