[发明专利]一种DD中子发生器屏蔽装置有效

专利信息
申请号: 202010454694.1 申请日: 2020-05-26
公开(公告)号: CN111667930B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 张凯;陈红涛;赵芳;阮锡超;刘世龙;侯龙;龚新宝;刘邢宇;张坤 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G21C11/02 分类号: G21C11/02;H05H3/06
代理公司: 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 代理人: 任晓航;胡明军
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于中子发生器屏蔽技术领域,具体涉及一种DD中子发生器屏蔽装置,包括由第一屏蔽体(1)和第二屏蔽体(2)合拢组成的密封的立方体型的屏蔽体,第一屏蔽体(1)内部设置第一空腔(3),第二屏蔽体(2)内部设置第二空腔(4),第一屏蔽体(1)和第二屏蔽体(2)合拢时,第一空腔(3)和第二空腔(4)共同构成设置中子发生器的主体部分的设备舱;中子发生器的主体部分用于通过DD反应产生中子。本发明实现了DD中子发生器在普通环境中的使用,无需建造中子屏蔽厅。对于DD中子产额为1E8的中子发生器,在离屏蔽体外表面1米处的总剂量水平小于1μSv/h,工作人员可在此工作5000小时/年。中子发生器与屏蔽体可以良好结合,维护维修便捷。
搜索关键词: 一种 dd 中子 发生器 屏蔽 装置
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