[发明专利]一种基于稳定涡串减阻的横向V槽结构及其应用有效
| 申请号： | 202010457823.2 | 申请日： | 2020-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN111611661B | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 李志平;潘天宇;贺龙 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G06F30/17 | 分类号： | G06F30/17;G06F30/28 |
| 代理公司： | 北京鼎承知识产权代理有限公司 11551 | 代理人： | 柯宏达 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种基于稳定涡串减阻的横向V槽结构，所述结构由若干V型槽组合而成，所述V型槽布置方向与流体的流向相互垂直，所述V型槽的宽为W；所述V型槽的高为H；所述V型槽的宽高比W/H为2。使用本公开结构时，在所述V型槽内能产生稳定的边界涡，以明显增加减阻效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 稳定 涡串减阻 横向 结构 及其 应用 | ||
【主权项】：
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