[发明专利]干涉型成像光谱仪内方位元素及畸变标定方法有效
| 申请号： | 202010461031.2 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN111707451B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 刘尚阔;周艳;赵建科;曹昆;李晶;田留德;李坤;薛勋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01J3/02 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 王凯敏 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 为解决传统平行光管加二维转台的相机内方位元素及畸变标定装置所存在的标定精度低的问题，本发明提出了一种干涉型成像光谱仪内方位元素及畸变标定方法。装置包括积分球光源、平行光管、二维转台、高精度立方镜、高精度测角装置和自准直经纬仪；高精度立方镜设置在被测干涉型成像光谱仪上，且其一个镜面与被测干涉型成像光谱仪的光轴垂直；高精度测角装置设置在二维转台的后方，与高精度立方镜形成自准直光路，用于实现被测干涉型成像光谱仪视场角的测定；自准直经纬仪设置在平行光管和二维转台之间，自准直经纬仪能观察到平行光管焦面处的十字丝靶标，并且经旋转后同时可观察到高精度立方镜反射回来的自准直像。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 成像 光谱仪 方位 元素 畸变 标定 方法 | ||
【主权项】：
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