[发明专利]一种完全消除重力影响的薄基片变形测量装置有效

专利信息
申请号: 202010465671.0 申请日: 2020-05-28
公开(公告)号: CN111457856B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 刘海军;周静;韩江;夏链;田晓青;卢磊 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: G01B11/16 分类号: G01B11/16
代理公司: 合肥金安专利事务所(普通合伙企业) 34114 代理人: 金惠贞
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种完全消除重力影响的薄基片变形测量装置,属于薄基片变形测量技术领域。包括二维运动平台、控制机构和负压机构;二维运动平台上设有重液槽和激光三角位移传感器;激光三角位移传感器的激光发射窗口和接收窗口正下方设有弯折玻璃;重液槽内设有重液和负压机构的三个球铰式负压吸嘴。用于薄基片变形测量时,被测薄基片的密度和重液的密度相等;被测薄基片由三个球铰式负压吸嘴吸附,完全浸没于重液中,被测薄基片的重力与重液的浮力完全相等,被测薄基片的重力不对自身的实际变形有影响,通过激光三角位移传感器扫描测量即可得到被测薄基片的实际变形。本发明不需要额外利用有限元软件仿真计算,测量成本显著降低。
搜索关键词: 一种 完全 消除 重力 影响 薄基片 变形 测量 装置
【主权项】:
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