[发明专利]激光共聚焦测高方法有效

专利信息
申请号: 202010467720.4 申请日: 2020-05-28
公开(公告)号: CN111366088B 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 马双双;李梦梦 申请(专利权)人: 嘉兴景焱智能装备技术有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06;G01B11/30
代理公司: 上海霖睿专利代理事务所(普通合伙) 31391 代理人: 黄燕石;陈得宗
地址: 314100 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及精密光学仪器测量系统技术领域,公开了一种激光共聚焦测高系统,包括共聚焦直线光路和激光光源,在所述激光光源与其后侧的照明后镜组之间设置双孔模块,所述双孔模块包括并排布置的第二分光棱镜和第三分光棱镜,所述第三分光棱镜的分光面与第二分光棱镜的分光面在激光光路的法向面上翻转90度,在第三分光棱镜的透光光路和分光光路上,分别设置正离焦测试PMT和负离焦测试PMT,在正离焦测试PMT的光路上的正离焦位置设置正离焦小孔,在负离焦测试PMT的光路上的负离焦位置设置负离焦小孔。本发明还公开了激光共聚焦测高方法。本发明对待测物面的高度范围内实现高精度测高功能,并能判断表面具体的凸凹特征。
搜索关键词: 激光 聚焦 测高 方法
【主权项】:
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