[发明专利]一种基于负性光刻胶的光学胶带及其生产工艺有效
申请号: | 202010468887.2 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN111592838B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 孟凡伟 | 申请(专利权)人: | 马鞍山东毅新材料科技有限公司 |
主分类号: | C09J7/50 | 分类号: | C09J7/50;C09J7/24;C09J7/25;C09J7/20 |
代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 李照 |
地址: | 238200 安徽省马鞍山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于负性光刻胶的光学胶带及其生产工艺,属于光学胶带技术领域,包括基底、抗蚀层、负性光刻胶层和光学胶层,所述基底的表面涂覆有抗蚀层、负性光刻胶层和光学胶层,所述抗蚀层位于负性光刻胶层和光学胶层、基底之间。可直接在物体上粘接光学胶带,使得物体的表面直接具有负性光刻胶的成像特性,且物体表面的负性光刻胶层受基底覆盖防护,两侧受光学胶层支撑,不会产生胶路因过厚导致坍塌。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 光刻 光学 胶带 及其 生产工艺 | ||
【主权项】:
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