[发明专利]基于等效变换的两轴两框架稳定控制方法有效
| 申请号： | 202010475775.X | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN111665872B | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 王新伟;韩瑞;张璟玥;陆红强;杜言鲁;巩全成;徐飞飞;王明超;李涛;赵博;陈红;康婷颋 | 申请（专利权）人： | 西安应用光学研究所 |
| 主分类号： | G05D3/20 | 分类号： | G05D3/20;G01C21/18 |
| 代理公司： | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人： | 周恒 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于伺服控制技术领域，具体涉及一种基于等效变换的两轴两框架稳定控制方法，该方法不存在测量及轴系正交传递解算误差，能够实现整个工作角度范围内的系统稳定，同时对于瞄准线能够实现完全补偿。本发明采用三轴一体惯性测量元件与瞄准线直接刚性连接，可降低测量误差及数学变换误差，直接反应瞄准线惯性速度，能有效提高测量精度；且本发明对两框架系统的控制方法进行了数学变换，将影响两框架系统过顶稳定的线性环节和非线性环节区分开来，一方面通过稳定方位电机轴实现两轴系统的全工作范围稳定，另一方面通过前馈形式将方位框转子横滚扰动引起的瞄准线非线性速度扰动进行补偿，两者共同作用能够实现对瞄准线方位的完全稳定控制。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 等效 变换 两轴两 框架 稳定 控制 方法 | ||
【主权项】：
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