[发明专利]一种非均匀布拉格光纤光栅制作方法及其结构在审
申请号: | 202010478914.4 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN111562646A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 郑加金;陈焕权;周金;白涵;童琴;余柯涵;张祖兴;韦玮 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 邓道花 |
地址: | 210046 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种非均匀布拉格光纤光栅制作方法及其结构,包括以下步骤:S100,在载氢反应釜内12Mpa‑15Mpa的高压条件下进行载氢处理;S200,利用具有相位掩模板的光纤光栅刻写系统在S100载氢增敏处理后的光纤上刻写布拉格光纤光栅,制作出均匀布拉格光纤光栅;S300,对制得的均匀布拉格光纤光栅进行在光纤拉锥系统进行光纤拉锥处理,制得非均匀布拉格光纤光栅;制得的非均匀布拉格光纤光栅包括光栅区,以及设置于光栅区两端的左裸腿部和右裸腿部,光栅区的包层和纤芯半径形成光学周期变化的结构,光栅区的光栅有效折射率沿轴向周期性变化。这种啁啾光纤光栅的制作简便,适用性强,能有效地解决利用啁啾相位掩模板来制作啁啾光纤光栅带来的高成本问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 均匀 布拉格 光纤 光栅 制作方法 及其 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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