[发明专利]三相三层正六边形线圈阵列的空间磁场均匀性优化方法有效

专利信息
申请号: 202010484720.5 申请日: 2020-06-01
公开(公告)号: CN111628580B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 程瑜华;刘椿武;李文钧;王高峰 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学温州研究院有限公司;杭州电子科技大学
主分类号: H02J50/40 分类号: H02J50/40;H02J50/70;H01F27/00;H01F27/28;H01F38/14
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 黄前泽
地址: 325024 浙江省温州市龙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于三相三层平面正六边形线圈阵列的空间磁场均匀性的优化方法。本发明如下:1、将正六边形线圈等效为圆形线圈,建立单个正六边形线圈在任一点P磁场强度幅值的表达式;3、建立三相三层发送线圈阵列对任一位置、姿态的接收线圈的有效磁场表达式;4、计算不同线圈半径a对应的平均有效磁场、最小有效磁场。5、根据步骤4得到的各线圈半径对应的平均有效磁场幅值、最小有效磁场幅值,筛选出最佳线圈半径作为三相三层正六边形线圈阵列内各个正六边形线圈的边长。本发明通过对三相三层平面正六边形发送线圈阵列的线圈边长进行优化,使得发送线圈阵列上方的磁场的均匀性可以得到进一步的增强。
搜索关键词: 三相 三层 六边形 线圈 阵列 空间 磁场 均匀 优化 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学温州研究院有限公司;杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学温州研究院有限公司;杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010484720.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top