[发明专利]硅波导端面耦合结构及其制作方法有效
申请号: | 202010484964.3 | 申请日: | 2020-06-01 |
公开(公告)号: | CN111679363B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 张巍;顿鹏翔;黄翊东;冯雪;刘仿;崔开宇 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122;G02B6/136;G02B6/13 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 周琦 |
地址: | 100084 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及光子集成器件技术领域,公开了硅波导端面耦合结构及其制作方法。该结构包括由下至上依次叠放的衬底硅、氧化层、硅波导和氮化硅层,氮化硅层的端部构造为脊形结构以形成脊形氮化硅波导,脊形氮化硅波导用于与普通单模光纤端面耦合。该方法包括:利用绝缘体上硅衬底中位于衬底硅上表面氧化层之上的薄膜硅层制备硅波导;在硅波导与光纤耦合的一端制备成宽度逐渐收窄的尖锥结构以形成硅波导尖锥结构;在硅波导与氧化层上方沉积一层氮化硅层;通过对氮化硅层进行浅刻蚀制备出脊形结构以形成脊形氮化硅波导。本发明的脊形氮化硅波导变换模场可以与普通单模光纤匹配,适合硅光子芯片封装过程中硅波导与普通单模光纤的低损耗耦合。 | ||
搜索关键词: | 波导 端面 耦合 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010484964.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。