[发明专利]一种半导体纳米线力学传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010486435.7 申请日: 2020-06-01
公开(公告)号: CN111664975A 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 黄辉;渠波;蔡伟成;李志瑞;赵丹娜 申请(专利权)人: 黄辉;渠波;蔡伟成
主分类号: G01L1/22 分类号: G01L1/22;B82Y40/00;B82Y15/00
代理公司: 北京金之桥知识产权代理有限公司 11137 代理人: 朱黎光;李托弟
地址: 116024 辽宁省大连市*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种半导体纳米线力学传感器及其制备方法。该半导体纳米线力学传感器包括第一衬底、以及设置于第一衬底顶面的导电层;第一衬底上设置有贯通导电层的第一凹槽,第一凹槽使得第一凹槽两侧的导电层之间相互绝缘;第一凹槽的两侧侧壁或两侧表面之间设有第一纳米线,第一纳米线连接第一凹槽两侧之间的导电层,使得第一凹槽两侧之间的导电层导通;第一纳米线的表面附着有微纳米材料或质量块。本发明提供的半导体纳米线力学传感器,通过在桥接纳米线的表面,二次生长微纳米材料或质量块,增加纳米线对流速或加速度的灵敏度;与目前的薄膜应变片相比,本发明的半导体纳米线力学传感器中纳米线具有更小的体积、更易于集成、以及更低的功耗。
搜索关键词: 一种 半导体 纳米 力学 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
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