[发明专利]制备高度上连续可调的三维纳米结构的方法有效
| 申请号： | 202010494162.0 | 申请日： | 2020-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN111675191B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 耿广州;李俊杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种制备高度上连续可调的三维纳米结构的方法，其包括如下步骤：(1)对第一衬底进行表面清洁处理；(2)在步骤(1)中得到的第一衬底上制备牺牲层；(3)使用电子束抗蚀剂旋涂制得的牺牲层，以形成抗蚀剂层；(4)使用电子束曝光系统以不同的曝光剂量，对步骤(3)中得到的抗蚀剂层进行图形曝光、显影和定影以形成具有不同深度的抗蚀剂层；(5)对步骤(4)中制得的抗蚀剂层进行薄膜沉积；(6)将步骤(5)中制得的样品置于能够溶解所述牺牲层的溶液中，使得除所述第一衬底外的样品漂浮于溶液上，然后将样品翻转转移至第二衬底上；(7)去除位于所述第二衬底上的抗蚀剂，获得最终的样品。本发明的方法不用套刻，大大简化了制作过程。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 高度 连续 可调 三维 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】：
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