[发明专利]具有增大的存储密度的三维闪存器件有效
申请号: | 202010498902.8 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN111613623B | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 佘敏;汤强 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L27/1157 | 分类号: | H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11575 |
代理公司: | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人: | 杨锡劢;刘柳 |
地址: | 430223 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 3D闪存器件包括:衬底,具有基本平坦的表面。半导体材料的多个有源柱设置在所述衬底上方。所述多个有源柱中的每一个沿与所述衬底的所述平坦的表面正交的第一方向延伸。所述多个有源柱以二维阵列布置。所述多个有源柱中的每一个包括沿所述第一方向延伸的多个局部源极线和多个局部位线。多个沟道区设置在所述多个局部位线和所述多个局部源极线之间。字线堆叠体环绕所述多个有源柱。电荷存储元设置在所述多个有源柱中的每一个和所述字线堆叠体之间。 | ||
搜索关键词: | 具有 增大 存储 密度 三维 闪存 器件 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的