[发明专利]一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法及装置在审

专利信息
申请号: 202010499019.0 申请日: 2020-06-04
公开(公告)号: CN111721784A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 王山峰;袁清习;张凯;黄万霞 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04;G01N23/20
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 司立彬
地址: 100049 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法及装置。本装置包括X射线光源、聚焦镜、标准分辨率板和成像探测器;其中,根据待测波带片的设计分辨率,选择匹配的成像探测器放置在该待测波带片的像平面上;根据该待测波带片的设计分辨率,选择匹配的标准分辨率板并将其放置在该待测波带片的物平面上;所述X射线光源用于经所述聚焦镜照明该标准分辨率板,透过该标准分辨率板的光线经该待测波带片成像于所述成像探测器。本装置可以最直观的检测成像波带片的分辨率和分析其衍射效率。
搜索关键词: 一种 纳米 波带片 成像 分辨率 测试 方法 装置
【主权项】:
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