[发明专利]一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法及装置在审
申请号: | 202010499019.0 | 申请日: | 2020-06-04 |
公开(公告)号: | CN111721784A | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 王山峰;袁清习;张凯;黄万霞 | 申请(专利权)人: | 中国科学院高能物理研究所 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01N23/20 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 | 代理人: | 司立彬 |
地址: | 100049 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种纳米级波带片成像分辨率测试的方法及装置。本装置包括X射线光源、聚焦镜、标准分辨率板和成像探测器;其中,根据待测波带片的设计分辨率,选择匹配的成像探测器放置在该待测波带片的像平面上;根据该待测波带片的设计分辨率,选择匹配的标准分辨率板并将其放置在该待测波带片的物平面上;所述X射线光源用于经所述聚焦镜照明该标准分辨率板,透过该标准分辨率板的光线经该待测波带片成像于所述成像探测器。本装置可以最直观的检测成像波带片的分辨率和分析其衍射效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 波带片 成像 分辨率 测试 方法 装置 | ||
【主权项】:
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