[发明专利]用于基片补偿定位的定位装置有效
| 申请号： | 202010501382.1 | 申请日： | 2020-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN111562718B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 冀然 | 申请（专利权）人： | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F9/00 |
| 代理公司： | 山东重诺律师事务所 37228 | 代理人： | 王鹏里 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市城阳区长城*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提出一种用于基片补偿定位的定位装置，包括：基盘，其上表面设置有第一真空槽组以及第二真空槽组；定位装置，其放置于所述基盘的上表面，且底部覆盖所述第一真空槽组和/或第二真空槽组，所述定位装置的中心设置有与基片尺寸相同的容纳槽，所述容纳槽贯通所述定位装置，基片位于所述容纳槽内，所述定位装置的上表面与基片的上表面位于同一水平面内；真空装置，其与所述第一真空槽组及第二真空槽组连通，以将基片以及所述定位装置真空吸附在所述基盘的上表面上。本发明易制作，造价低，且使用方法非常简单，能实现各种形状的基片的精确定位，并且根据基片的厚度进行厚度补偿，同时又能避免了溢出的胶体流入基盘内，进而延长基盘的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 补偿 定位 装置 | ||
【主权项】：
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