[发明专利]一种基于成像条件校正的开放测量环境光谱测量方法有效
| 申请号： | 202010501553.0 | 申请日： | 2020-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN111750993B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 梁金星;胡新荣;何儒汉;熊明福;陈常念;吴晓堃;何凯;刘军平;彭涛 | 申请（专利权）人： | 武汉纺织大学 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 王琪 |
| 地址： | 430200 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于成像条件校正的开放测量环境光谱测量方法，包括测量获得参考测量环境的光源数据；在参考测量环境下，拍摄训练样本集与参考白板数字图像，提取其各自raw响应值；计算光谱估计矩阵Q；在开放测量环境下，拍摄测量对象与参考白板数字图像，提取其各自raw响应值；利用参考白板raw响应值，计算校正矩阵M |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 成像 条件 校正 开放 测量 环境 光谱 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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