[发明专利]阵列基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202010501683.4 | 申请日： | 2020-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN111650791A | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 谭敏力;胡小波;刘健;彭钊;江奇峰 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 徐世俊 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种阵列基板及其制备方法，阵列基板具有一衬底基板，阵列基板包括设置于衬底基板上的一导电膜层，导电膜层包括一金属电极层和设置于金属电极层背离衬底基板的一侧表面上的一第一阻挡层；第一阻挡层在背离金属电极层一侧的表面上具有多个微孔并附着有疏水性基团。本申请实施例阵列基板能够实现第一阻挡层背离金属电极层一侧的表面与光刻胶层之间附着力的改善。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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