[发明专利]一种非接触测量光学晶体包边厚度的装置和方法有效

专利信息
申请号: 202010503118.1 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN111795649B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 汪丹;周唐建;尚建力;高清松;王君涛;王亚楠;邬映臣;李密 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 韩雪
地址: 621000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种非接触测量光学晶体包边厚度的装置和方法,属于激光系统光学参数测量领域,平行光源发射的平行激光束入射至待测样品的包边和晶体内部,光线在包边和晶体内部沿直线传播,在界面处发生反射和散射,出射光经过物镜和目镜后,待测样品后表面光场分布成像至CCD相机,因界面处光线不能到达CCD相机,在像中对应的位置会出现暗区;CCD相机用于将采集的光场分布转化为图像,并传递给数据处理系统,数据处理系统计算出暗区到待测样品的包边边缘的长度,再根据成像系统放大比例,获得晶体包边厚度。本发明的非接触测量光学晶体包边厚度的装置和方法,结构简单、使用方便,快速直观,可弥补已有技术结构复杂和不能直接测量的不足。
搜索关键词: 一种 接触 测量 光学 晶体 厚度 装置 方法
【主权项】:
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