[发明专利]一种用于制备GAGG:Ce,Pr闪烁粉体和闪烁晶体的方法在审

专利信息
申请号: 202010503447.6 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN111621295A 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 王宇;顾鹏;梁振兴;李敏 申请(专利权)人: 眉山博雅新材料有限公司
主分类号: C09K11/80 分类号: C09K11/80;C30B29/22;C30B35/00
代理公司: 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 代理人: 袁春晓
地址: 620010 四川省眉*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 本申请实施例公开了一种用于制备GAGG:Ce,Pr闪烁粉体的方法。该方法包括:将预设比例的反应物料溶解于酸溶液中,得到盐溶液;将盐溶液反向滴定至沉淀剂中,得到包括前驱体的溶液,其中,沉淀剂用于沉淀盐溶液以得到前驱体;调节包括前驱体的溶液的pH值,以使包括前驱体的溶液的pH值与预设pH值的差值小于预设阈值;对包括前驱体的溶液进行过滤处理,得到前驱体;以及对前驱体进行退火处理,得到GAGG:Ce,Pr闪烁粉体。本申请实施例还进一步公开了基于GAGG:Ce,Pr闪烁粉体制备GAGG:Ce,Pr闪烁晶体的方法。根据本申请实施例可以制得纯度高、粒径小、分散均匀且无明显团聚现象的GAGG:Ce,Pr闪烁粉体,进一步地,可以制得闪烁性能均匀且具有较高光产额和较短发光衰减时间的GAGG:Ce,Pr闪烁晶体。
搜索关键词: 一种 用于 制备 gagg ce pr 闪烁 晶体 方法
【主权项】:
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