[发明专利]一种分光谱响应增强的透射式光电阴极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010504428.5 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN111613497B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 蔡志鹏;张景文 申请(专利权)人: 陕西理工大学;西安交通大学
主分类号: H01J1/34 分类号: H01J1/34;H01J40/06;H01J9/12
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 杜阳阳
地址: 723001 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种分光谱响应增强的透射式光电阴极及其制备方法。该透射式光电阴极沿信号光入射方向依次包括:光学选通膜、光学玻璃、光学增透膜、缓冲层、发射层和激活层;所述光学选通膜、所述光学增透膜、所述缓冲层和所述发射层分别分为若干区域,且所述光学选通膜的各区域、所述光学增透膜的各区域、所述缓冲层的各区域和所述发射层的各区域分别一一对应,各所述区域的材料、厚度和层数根据各所述区域响应的波段进行设定。本发明提供的光电阴极能够使各波段均具有较高的量子效率,能够实现宽、窄光谱并行工作,消除宽、窄光谱光电阴极之间的应用界限。
搜索关键词: 一种 光谱 响应 增强 透射 光电 阴极 及其 制备 方法
【主权项】:
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