[发明专利]一种淡化ITO蚀刻纹的方法在审
| 申请号： | 202010504618.7 | 申请日： | 2020-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN111506223A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 郑琦林;刘月豹;晏竹冰;张阳;廖晓芮;叶飞 | 申请（专利权）人： | 安徽方兴光电新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 周勇 |
| 地址： | 233010 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种淡化ITO蚀刻纹的方法，该方法包括以下步骤：绘制ITO通道图案，ITO通道图案的线距设定为A，ITO通道图案线距的工艺公差值为n；在ITO通道图案之间的间隙内，绘制靠近ITO通道图案的外层ITO悬浮块，外层ITO悬浮块与ITO通道图案的间距为A，此处的工艺公差值为n；绘制不与ITO通道图案相邻的内层ITO悬浮块，内层ITO悬浮块之间的间隙为B，B≤|n|。本发明提供了淡化ITO蚀刻纹的方法，摈弃了传统的等距间隙设置方式，充分考虑到难以避免的工艺公差，合理设置悬浮块的间距，使得悬浮块之间产生位置、大小和形状随机分布的导通，将整条规则的条状蚀刻纹分割成不规则的各个片段，进而起到淡化蚀刻纹的作用，成本低，操作简单，非常值得推广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 淡化 ito 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
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