[发明专利]多层二碲化钼场效应晶体管的电子-空穴可逆掺杂方法有效

专利信息
申请号: 202010506463.0 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN111627821B 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 张礼杰;罗婷燕;潘宝俊;董幼青;邹超 申请(专利权)人: 温州大学
主分类号: H01L21/383 分类号: H01L21/383;H01L21/423;H01L21/428;H01L21/34
代理公司: 杭州星河慧专利代理事务所(普通合伙) 33410 代理人: 周丽娟
地址: 325000 浙江省温州市瓯海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了多层二碲化钼场效应晶体管的电子‑空穴可逆掺杂方法,先用机械剥离的方法制备MoTe2场效应晶体管器件,然后通过在空气中以适当的温度和时间加热MoTe2场效应晶体管器件得到P型掺杂的MoTe2场效应晶体管器件,再通过在扫描电镜舱室内用高压电子束对MoTe2场效应晶体管的表面进行辐照得到N型掺杂的MoTe2场效应晶体管器件。如此P型掺杂和N型掺杂的过程可以反复且可控,实现了多层二碲化钼场效应晶体管的电子‑空穴可逆掺杂方法,从而可以大范围地控制二碲化钼器件的电子传输极性,本发明方法简单,重复性好,所测得的二碲化钼性能好,对材料的损伤小,所需条件简单,对环境友好。
搜索关键词: 多层 二碲化钼 场效应 晶体管 电子 空穴 可逆 掺杂 方法
【主权项】:
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