[发明专利]多层二碲化钼场效应晶体管的电子-空穴可逆掺杂方法有效
申请号: | 202010506463.0 | 申请日: | 2020-06-05 |
公开(公告)号: | CN111627821B | 公开(公告)日: | 2023-09-12 |
发明(设计)人: | 张礼杰;罗婷燕;潘宝俊;董幼青;邹超 | 申请(专利权)人: | 温州大学 |
主分类号: | H01L21/383 | 分类号: | H01L21/383;H01L21/423;H01L21/428;H01L21/34 |
代理公司: | 杭州星河慧专利代理事务所(普通合伙) 33410 | 代理人: | 周丽娟 |
地址: | 325000 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明公开了多层二碲化钼场效应晶体管的电子‑空穴可逆掺杂方法,先用机械剥离的方法制备MoTe |
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搜索关键词: | 多层 二碲化钼 场效应 晶体管 电子 空穴 可逆 掺杂 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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