[发明专利]集成电路装置、制造其的方法以及半导体图像传感装置在审

专利信息
申请号: 202010519137.3 申请日: 2020-06-09
公开(公告)号: CN112820744A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 江彦廷;王俊智;杨敦年;刘人诚;施俊吉;丁世泛;黄益民 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 通过为反射器提供接地连接来解决降低图像传感装置(特别是近红外检测器)中的噪声的问题。反射器可通过将反射器耦合到衬底的接地区域的通孔来接地。衬底的接地区域可以是接近于衬底的表面形成的P+掺杂区域。具体来说,P+掺杂区域可以是光电二极管的部分。替代地,反射器可通过形成在衬底的前侧上方的金属内连线结构来接地。
搜索关键词: 集成电路 装置 制造 方法 以及 半导体 图像 传感
【主权项】:
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