[发明专利]一种纳米晶NdGaN硬质涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202010526583.7 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN111501014A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 吴泽;刘磊;邢佑强 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/455 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210096 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于表面工程制造技术领域，涉及一种纳米晶NdGaN硬质涂层及其制备方法。本发明提供的NdGaN涂层是一种纳米晶结构的超硬涂层，涂层基体的主要成分为NdN，添加相为Ga；本发明的纳米晶NdGaN硬质涂层是通过原子层沉积的方法制备。本发明提供的纳米晶NdGaN硬质涂层具有结构致密、高硬度、表面自润滑的突出特点。本发明提供的纳米晶NdGaN硬质涂层可广泛应用于工程装备的摩擦接触领域，能够有效提高接触部件的抗磨损能力和工程装备的整体可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 ndgan 硬质 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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