[发明专利]一种缺陷样本生成方法、装置、电子设备及存储介质有效
| 申请号： | 202010526870.8 | 申请日： | 2020-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN111681162B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 张发恩 | 申请（专利权）人： | 创新奇智（成都）科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T3/00 | 分类号： | G06T3/00 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 唐正瑜 |
| 地址： | 610200 四川省成都市双流区东升街道银河路三段1*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本申请提供一种缺陷样本生成方法、装置、电子设备及存储介质。方法包括：获得待处理工件图像和带缺陷工件图像；带缺陷工件图像包括第一缺陷区域；在待处理工件图像中随机确定第二缺陷区域；将第一缺陷区域与第二缺陷区域进行直方图匹配，获得新的待处理工件图像；将新的待处理工件图像输入风格迁移模型中进行风格迁移处理，获得风格迁移模型输出的目标图像；目标图像中的包括生成的缺陷。本申请实施例通过在待处理工件图像中随机确定第二缺陷区域用来仿造缺陷，其位置、形状、大小都是随机的，因此，能够获得更多种类的缺陷，然后利用直方图匹配以及风格迁移方法来提高仿造缺陷的真实性。不需要人工在工件上制造缺陷，大大地降低的人力物力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缺陷 样本 生成 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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