[发明专利]一种微流控芯片微通道的多焦点超快激光制备装置及方法有效

专利信息
申请号: 202010527388.6 申请日: 2020-06-11
公开(公告)号: CN111822886B 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 曾和平;杨川;胡梦云;袁帅 申请(专利权)人: 华东师范大学重庆研究院;华东师范大学;重庆华谱科学仪器有限公司;重庆华谱智能装备有限公司;上海朗研光电科技有限公司;云南华谱量子材料有限公司;广东朗研科技有限公司
主分类号: B23K26/382 分类号: B23K26/382;B23K26/55;B23K26/067;B23K26/06;B23K26/60;B23K26/70
代理公司: 重庆启恒腾元专利代理事务所(普通合伙) 50232 代理人: 江涛
地址: 401123 重庆市渝北*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种微流控芯片微通道的多焦点超快激光制备装置及方法,利用阵列式多焦点飞秒激光,对微流控芯片进行飞秒激光点阵烧蚀,并且采用脉冲激光二次烧蚀,结合氢氟酸超声腐蚀对烧蚀后的微流控芯片进行处理得到微流控芯片的真三维微通道结构,实现了微流控芯片微通道的高效加工。本发明同时公开了微流控芯片微通道的多焦点超快激光制备装置。本发明具有高精度、高效率、高安全性和灵活性,以及大尺度的加工优点,可以广泛应用于生物、化学及医疗等领域具有重要的价值和意义,发展及应用前景广阔。
搜索关键词: 一种 微流控 芯片 通道 焦点 激光 制备 装置 方法
【主权项】:
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