[发明专利]基于L4范数优化的多光谱重建方法和装置有效

专利信息
申请号: 202010528222.6 申请日: 2020-06-11
公开(公告)号: CN111651720B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 边丽蘅;闫荣;张军 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G06F17/16 分类号: G06F17/16;G01N21/25;G01J3/28
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 石茵汀
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提出一种基于L4范数优化的多光谱重建方法和装置,其中,方法包括:获取多光谱数据集;使用L4范数优化模型对多光谱数据集进行成分分析,构成基向量空间;通过预设正则化算法对待重建光谱进行正则化约束构建目标函数;对目标函数进行求解,使用基向量空间对待重建光谱进行表征,得到基向量系数矩阵;根据基向量系数矩阵和基向量空间,对待重建光谱进行重建。由此,利用L4范数优化对高维数据进行成分分析,得到基向量特征明显,提高重建效率,在正则化约束下重建,提高精度,增强算法鲁棒性。
搜索关键词: 基于 l4 范数 优化 光谱 重建 方法 装置
【主权项】:
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