[发明专利]一种沟槽围合孔洞结构及其在锥状微纳结构加工中的应用有效
| 申请号： | 202010530980.1 | 申请日： | 2020-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN111807316B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 佘峻聪;黄锦伦;黄一峰;邓少芝;许宁生;陈军 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 姚招泉 |
| 地址： | 510275 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种沟槽围合孔洞结构及其在锥状微纳结构加工中的应用，所述沟槽围合孔洞结构包含由下往上依次叠层的衬底、第一膜层以及第二膜层；所述第一膜层制备有孔洞以及环形沟槽；所述环形沟槽围合孔洞；所述孔洞的深度等于所述第一膜层的厚度；所述沟槽的深度小于所述第一膜层的厚度；所述环形沟槽的内环与外环之间的间隔大于等于孔洞的孔径的四分之三；所述第二膜层采用以垂直于衬底的角度定向沉积制备。本发明提供的沟槽围合孔洞结构可避免第二膜层形变，提高在孔洞中由第二膜层材料所形成的微纳结构的几何形貌一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沟槽 孔洞 结构 及其 锥状微纳 加工 中的 应用 | ||
【主权项】：
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