[发明专利]一种自对准的GaN肖特基二极管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202010534613.9 申请日: 2020-06-12
公开(公告)号: CN111816696B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 张凯;代鲲鹏;陈韬;牛斌;朱广润;陈堂胜 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01L29/417 分类号: H01L29/417;H01L29/47;H01L29/872;H01L21/28;H01L21/329
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 曹芸
地址: 210016 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种自对准的GaN肖特基二极管及其制造方法,属于半导体器件制备技术领域。该二极管包括衬底、n+GaN层、n‑GaN层、T型阳极和空气桥;所述衬底上方设有隔离槽,所述n+GaN层上方设有阴极,所述n‑GaN层与所述阴极之间还设有间隔区,所述T型阳极位于所述n‑GaN层的正上方,所述n‑GaN层与所述T型阳极的直径相等。本发明提出的一种自对准GaN肖特基二极管能够极大地缩短阴极和阳极的间距,降低n+GaN层的串联电阻,提高二极管的截止频率和功率等性能,且制备工艺与现有平面结构肖特基二极管兼容度高,在微波毫米波整流器与限幅器、太赫兹倍频器等领域具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 对准 gan 肖特基 二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
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