[发明专利]纳米压印模板及其制造方法和脱模方法有效
| 申请号： | 202010543677.5 | 申请日： | 2020-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN111562719B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 周雪原;张笑;赵晋;路彦辉;李多辉;宋梦亚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 张玲玲 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开一种纳米压印模板及其制造方法和脱模方法。该纳米压印模板包括第一模板和第二模板。所述第一模板设置有压印图案，所述压印图案包括间隔的多个压印柱以及位于相邻压印柱之间的沟槽。所述第二模板设置有填充图案，所述填充图案填充所述第一模板的所述沟槽，使得所述第一模板和所述第二模板相嵌，所述压印柱穿过所述第二模板。所述纳米压印模板能够降低压印胶与压印基底分离的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 模板 及其 制造 方法 脱模 | ||
【主权项】：
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