[发明专利]一种基于TSV硅晶圆重构的裸芯片KGD筛选方法有效
| 申请号： | 202010544608.6 | 申请日： | 2020-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN111696880B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 唐磊;李宝霞;匡乃亮;郭雁蓉;赵超 | 申请（专利权）人： | 西安微电子技术研究所 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;B07C5/344 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 李鹏威 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明一种基于TSV硅晶圆重构的裸芯片KGD筛选方法，包括步骤1，确定硅晶圆标准基板中放置的该尺寸被测的裸芯片数量；步骤2，在硅晶圆标准基板上开设凹槽，以及制备底部有导电材料填充的TSV盲孔，凹槽中能放入被测的裸芯片且凹槽的深度大于被测的裸芯片厚度；步骤3，将被测的裸芯片放置在硅晶圆标准基板的凹槽内，然后用有机胶水涂覆，之后得到表面平整的硅晶圆标准基板；步骤4，先对表面平整的硅晶圆标准基板进行正面多层金属布线，之后通过将硅晶圆标准基板背面减薄露出TSV盲孔的底部导电材料，并进行背面多层金属布线和制备凸点，最后将得到的硅晶圆标准基板按照其中埋置的被测裸芯片尺寸划片后通过KGD测试进行筛选。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 tsv 硅晶圆重构 芯片 kgd 筛选 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安微电子技术研究所，未经西安微电子技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010544608.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：目标对象类型的确定方法及装置
- 下一篇：一种取水用潜水泵安装管路及其使用方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
