[发明专利]金红石二氧化钛单晶薄膜-衬底材料异质结构及其制备方法有效
申请号: | 202010545318.3 | 申请日: | 2020-06-16 |
公开(公告)号: | CN111725298B | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 马钰洁 | 申请(专利权)人: | 深圳技术大学 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L21/02;H01L21/265;H01L21/18 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 李素兰 |
地址: | 518118 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种金红石二氧化钛单晶薄膜‑衬底材料异质结构及其制备方法,该结构为由亚微米厚度的金红石二氧化钛单晶薄膜(2)与二氧化硅衬底层(3)构成的异质结构,还包括在二氧化硅衬底层(3)下方的第一、第二粘合层(41)、(42)、位于第一、第二粘合层(41)、(42)之间的铜锡化合物键合层(7)以及位于第二粘合层(41)下方的金红石二氧化钛单晶块体(8)。本发明所制备的金红石二氧化钛单晶薄膜‑衬底材料异质结构不仅拥有具备良好单晶性的金红石二氧化钛薄膜,而且可以根据应用需求选择合适的衬底材料制备出多种异质结构,克服了外延生长方法对单晶薄膜异质结构制备面临的困难,为金红石二氧化钛薄膜在光电器件的应用打下基础。 | ||
搜索关键词: | 金红石 氧化 钛单晶 薄膜 衬底 材料 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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