[发明专利]一种四面体非晶碳膜及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 202010545871.7 申请日: 2020-06-16
公开(公告)号: CN111647861A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 左潇;汪爱英;张栋;陈仁德;李昊 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C23C14/54
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王锋
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种四面体非晶碳膜及其制备方法与应用。所述四面体非晶碳膜的制备方法包括:对基体表面进行刻蚀处理;之后采用高功率脉冲磁控溅射技术,以石墨靶为靶材,在所述基体表面沉积形成四面体非晶碳膜,其中,高功率脉冲占空比为1%~5%,溅射功率为700~1000W,基体温度小于50℃,所述四面体非晶碳膜的结构中sp3的含量大于75%,所述四面体非晶碳膜的粗糙度小于2nm,所述四面体非晶碳膜的硬度大于40GPa。本发明采用高功率脉冲磁控溅射溅射石墨靶制备的四面体非晶碳膜,具有高光滑度,同时本发明通过优化的脉冲占空比以及溅射功率,在低温下制备出sp3含量超过75%,硬度大于40GPa的四面体非晶碳膜;本发明制备的四面体非晶碳膜在热敏感性的基材表面有很好的应用前景。
搜索关键词: 一种 四面体 非晶碳膜 及其 制备 方法 应用
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