[发明专利]一种高功率、低漏电的Sense-Switch型pFLASH单元结构在审

专利信息
申请号: 202010548495.7 申请日: 2020-06-16
公开(公告)号: CN111668223A 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 宋思德;刘国柱;张海良;施辉;吴建伟;洪根深;贺琪 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十八研究所
主分类号: H01L27/11519 分类号: H01L27/11519;G11C16/04
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种高功率、低漏电的Sense‑Switch型pFLASH单元结构,属于Flash型开关单元技术领域。在衬底上设置有深N阱;编程/擦除管T1的有源区和信号传输管T2的有源区制作在深N阱内;深N阱上依次设有隧道氧化层、浮栅多晶层、IPD多晶间介质层和控制栅多晶层;控制栅多晶层的外侧设有侧墙;深N阱上设有ILD介质层,ILD介质层上设有金属层;隧道氧化层外围设有SAB介质层,内填充有金属硅化物,在金属硅化物上方设有贯穿ILD介质层的通孔连接结构,金属层通过通孔连接结构和金属硅化物与编程/擦除MOS管T1和信号传输管T2欧姆接触。本发明能够降低Flash型FPGA中Flash基本单元的静态漏电水平,并且提高其电流传输能力,为低漏电、高输出功率的Flash型FPGA的研制提供一种新的思路。
搜索关键词: 一种 功率 漏电 sense switch pflash 单元 结构
【主权项】:
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