[发明专利]曝光装置及物品制造方法在审
| 申请号： | 202010556563.4 | 申请日： | 2020-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN112099318A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 漆原宏亮 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人： | 迟军;高华丽 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置及物品制造方法。有利于兼顾投影光学系统的光学性能的校正性能与生产率。曝光装置具有：投影光学系统，将掩模的图案投影到基板；供给部，将折射率互不相同的多种气体以预先设定的混合率即设定混合比来混合而得的混合气体供给到投影光学系统的内部的光学元件间的空间；控制部，通过控制设定混合比来对投影光学系统的成像特性进行校正并对基板进行曝光。控制部获取表示供给部以固定的混合比供给混合气体时的成像特性的演变的响应特性，控制部在将设定混合比设定为目标混合比并对基板进行曝光时，在成像特性转变为稳定状态之前的过渡期间中，将设定混合比设定为基于响应特性对目标混合比进行校正而得的值并对基板进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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