[发明专利]基于磁耦合旋转的物理气相沉积设备有效
申请号: | 202010557163.5 | 申请日: | 2020-06-18 |
公开(公告)号: | CN111455341B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 解文骏;宋维聪 | 申请(专利权)人: | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/56 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201203 上海市浦东新区中国(上海)自*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种基于磁耦合旋转的物理气相沉积设备,包括腔体、支撑轴、主驱动模块、从动模块、主磁旋转模块、真空绝缘衬套、从动磁力旋转模块、托举环、加热器及遮蔽环;真空绝缘衬套位于底板内;主驱动模块和从动模块均位于底板的下部;主驱动模块包括主动齿轮及电机,电机与主动齿轮电连接;从动模块包括从动齿轮,从动齿轮位于主动齿轮的一侧且与主动齿轮啮合;主磁旋转模块位于从动磁力旋转模块的下方;从动磁力旋转模块通过与主磁旋转模块的磁耦合实现旋转;托举环位于从动磁力旋转模块的上部且与从动磁力旋转模块相连接;加热器固定于支撑轴的顶部;遮蔽环位于加热器的上方,用于承载晶圆。本发明有助于改善沉积薄膜的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 基于 耦合 旋转 物理 沉积 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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