[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板、显示装置在审
| 申请号： | 202010562553.1 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN113823696A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 贺家煜;宁策;李正亮;胡合合;黄杰;姚念琦;王治;关峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/06;H01L21/336;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;胡影 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板、显示装置，涉及显示技术领域，用于提升薄膜晶体管的特性。所述薄膜晶体管包括：设置于基底上的有源层，有源层形成为栅格状结构，包括多条沿第一方向延伸的硅纳米线，有源层包括沿第一方向相对设置的源极区和漏极区，以及位于源极区和漏极区之间的沟道区；设置于基底上的栅极，栅极沿第二方向延伸，第二方向与第一方向相交，栅极在基底上的正投影，与沟道区中的多条硅纳米线在基底上的正投影分别交叠；设置于基底上的源极和漏极，源极与源极区中的多条硅纳米线分别接触，漏极与漏极区中的多条硅纳米线分别接触。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜晶体管 及其 制作方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
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