[发明专利]一种肖特基二极管及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010562600.2 申请日: 2020-06-18
公开(公告)号: CN111540788A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 郑军;成步文 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L21/329;H01L29/06;H01L29/24
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李佳
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种肖特基二极管及制备方法,该肖特基二极管包括:氧化镓衬底、欧姆接触电极、氧化镓漂移层和肖特基接触电极;氧化镓漂移层包括重掺杂氧化镓和半绝缘氧化镓;氧化镓衬底上由左至右设置有欧姆接触电极、重掺杂氧化镓、半绝缘氧化镓和肖特基接触电极。本发明实施例由于欧姆接触电极和肖特基接触电极位于同一平面上,当将电压加载在两个接触电极之间时,将形成沿水平方向的电场,使得肖特基二极管的工作方式为水平工作,实现了无需采用复杂的外延工艺,便可获得高质量的氧化镓漂移层,工艺重复性好,非常适用于大规模生长制备,并且可在高压条件下工作。
搜索关键词: 一种 肖特基 二极管 制备 方法
【主权项】:
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