[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 202010567638.9 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN111694464A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 王炎;陈延青;李伟;王宁;秦伟达;张昭;李静;杨峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/77;H01L23/544 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于提高曲面显示装置的对比度。阵列基板的制备方法，包括：提供衬底，具有边框区。在衬底一侧形成栅导电层；栅导电层包括位于边框区的第一对位标记。在栅导电层远离衬底一侧形成源漏导电薄膜。根据第一对位标记，对源漏导电薄膜进行图案化形成位于边框区的第二对位标记，得到源漏导电层；源漏导电层的反射率大于栅导电层的反射率。在源漏导电层远离衬底一侧形成黑矩阵薄膜。根据第二对位标记，对黑矩阵薄膜进行图案化形成黑矩阵。在黑矩阵远离衬底一侧形成滤色层。本公开提供的阵列基板及其制备方法、显示装置用于实现图像显示。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
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