[发明专利]倍增寄存器结构以及包括该倍增寄存器结构的EMCCD有效

专利信息
申请号: 202010567950.8 申请日: 2020-06-19
公开(公告)号: CN111787247B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 白雪平;杨洪;郑渝;曲鹏程 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H04N5/372 分类号: H04N5/372;H01L31/107;H01L31/0352;H01L27/148
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 王海军
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明属于半导体器件技术领域,涉及一种能够提高EMCCD响应线性度的结构,具体涉及倍增寄存器结构以及包括该倍增寄存器结构的EMCCD;所述倍增寄存器结构,包括衬底和位于衬底之上的埋沟;在埋沟上覆盖有栅介质,在栅介质上形成有第一电极Ф1、第二电极Фdc、第三电极Фem和第四电极Ф3;这四个电极依次对应为第一转移相、直流相、倍增相以及第二转移相;将倍增相对应的埋沟划分为倍增埋沟和电荷埋沟,所述倍增埋沟用于电荷倍增;所述电荷埋沟用于存储倍增后的电荷;本发明提供了倍增寄存器结构以及EMCCD,将倍增寄存器分成两部分,一部分用来倍增,一部分用来存储电荷,这样可以有效避免倍增电场的降低。
搜索关键词: 倍增 寄存器 结构 以及 包括 emccd
【主权项】:
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